1200℃大口径管式气氛炉
CNT生产的PECVD(等离子增强化学气相淀积)设备是一种用于在基片要用途:CNT管式气氛炉主要用于玻璃、生物陶瓷、石墨烯、锂电正负极材料、晶体退火、LED发光材料等领域
300°-1400°立式真空气氛管式电炉
该系列电炉系周期作业,供企业实验室、大专院校、科研院所等单位选用。设备为用户提供具有真空、可控气氛及高温的试验环境,应用在半导体,电子陶瓷产品、纳米技术、碳纤维、高温热解低温沉淀(CVD)、镀膜等新材料新工艺领域。
TPR TPD 程序升温反应装置
DL-1程序升温反应装置,是由大连森杰科技联合大连理工大学研制开发的一种经济型多功能催化剂表征系统,具有三种流动分析方法:程序升温还原(TPR)、程序升温脱附(TPD)和脉冲滴定(化学吸附),也可用于催化样品制备反应。
箱式电阻炉|高温电阻炉
本系列电阻炉系周期作业式,以硅钼棒为加热元件,炉膛额定温度为1600℃。供实验室、工矿企业、科研单位作金属、陶瓷的烧结、熔融、分析等高温加热用。
WiseTherm®F/FH数字式马弗炉
重量轻,四面加热,数码FUZZY控制,数码液晶显示,3-63L, 加入PL保险